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中国是能够生产光刻机的，只不过比较落后 。现在国内最先进的就是上海微电子研发的28nm光刻机，世界上最知名的光刻机制造商就是荷兰ASML，现在最先进的光刻机是5nm，两者之间的差距在二十年以上 。
国内确实都在全力研发光刻机，并且有了光刻机的技术是可以用到其他高技术装备上的，比如生产TFT所需的PA机，可以轻而易举将2K分辨率提高至8K甚至10K 。但是，我们也要看到光刻机里所需的部件，尤其是两个核心部件光栅和EUV高压曝光灯目前是依靠进口的，其中光栅来自美国 。高压灯应该来自德国，而且是个耗材，每2000小时需要更换 。一旦人家停止供应，我们的光刻机就会变成一堆废铁 。
在半导体装备上，我们缺的东西太多，大家绝不要以为这是靠几年时间，花几千个亿就可以完成全部国产化的 。比如我们常说5纳米、7纳米，事实是纳米的量具我们都是依赖进口，没有量具，就没法调试透镜的研磨机(又是进口的)，也没法测量透镜的加工精度 。如果我国可以完全自主生产光刻机，掌握全部的核心部件生产，那意味着我们的工业水平已经超过了美日欧，这需要几十年，投资不是以亿计，而是以兆计 。
【光刻机中国能造吗？】
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