二零二零年对于中国半导体行业来说，是砥砺前行的一年，因为美国一纸禁令，必须使用EUV光刻机的华为五纳米芯片，麒麟九零零零无法生产，让很多国人既气愤又无奈 。
可以说，每一位关心中国科技发展的小伙伴都在问，到底什么时候，我们国产光刻机能够问世，到底什么时候，我们自己的光刻机能给华为代加工高端芯片？今天我们就来聊聊这个话题，做一个关于国产光刻机的小盘点，来梳理一下国产光刻机的发展现状 。
今天我们先以问答的形式来进行，具体如下：
答案是有，生产企业是上海微电子 。
我们在上海微电子官网可以看到，二零一八年三月，上海微电子的九零nm光刻机项目通过正式验收 。也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到九零纳米工艺 。
之前有网友爆料，上海微电子将于二零二零年一二月下线首台采用ArF光源的SSA八零零/一零W光刻机，这是一台国产浸没式 DUV 光刻机，可实现单次曝光二八nm节点 。所以网络里一直流传着这个说法 。不过对于此消息，有人说是真的，有人说是假的 。让人很是迷煳 。
为此，我特意进行了求证 。那么求证的过程中，我发现这样一条信息，或许可以说明一些情况 。
它是一篇来自江苏省开发区协会曾经发布的文章，标题为：科益虹源集成电路光刻光源制造及服务基地项目开工 。文章里提到，到二零二零年产品将与整机单位共同完成二八nm国产光刻机的集成工作 。
也就是说，科益虹源的准分子激光器将会配套到上海微电子的光刻机中，而这台计划中的光刻机可以实现二八纳米工艺 。
因为发布渠道的属性，我们基本上可以肯定，可以实现二八纳米工艺的国产光刻机确有其事，并且原计划是二零二零年下线 。
不过，不知道是什么原因，官网的这篇文章已经被删除 。但可以在天眼查里科益虹源的相关页面中看到，系统抓取留存的这条信息 。
另外，现在已经进入二零二一年，是否按照计划完成了二八纳米光刻机？我们在上海微电子官网或者其他官方网站都没有查到相关信息 。
还有二则报道：
一个是方正证券去年发布的相关信息例显示，国家 零二 专项光刻机项目二期拟于 二零二零 年 一二 月验收由上海微电子设计集成的 一九三nm ArF 浸没式 DUV 光刻机 。
二是知名媒体DIGITIMES曾报道，上海微电子有望在二零二一年四季度交付第二代深紫外光（DUV）光刻机，该设备可实现二八纳米工艺 。
所以，基本上可以做实，上海微电子的确在做可以实现二八纳米制程的国产DUV光刻机 。只是是否通过验收，到底何时能交付，目前未知 。
二八纳米将会是我们国产光刻机的最高工艺水平，严格来说，这个真的算不上高水平，它的前面还有一四、七、五、三、二，甚至是一nm 。
但是二八纳米是成熟工艺，生产成本低，只要不追求极致性能的情况下，这种制程的芯片，其性能也够用的，用来生产我们日常生活中的电子设备是没有问题的，例如电视、电视盒子、音响、电梯、空调、微波炉、冰箱、汽车等等 。
或者你可以这样理解，在小型设备中，需要更低制程的芯片，例如手机，因为空间有限，想要实现更好的性能，芯片就需要更加先进的生产工艺 。
另外，根据研究机构IC Insights发布的《二零二零-二零二四年全球晶圆产能》报告，预计到二零二四年，半导体制程格局将出现一零nm以下，一零-二零nm，二零nm以上工艺三分天下的格局，各自市场占有率约为一/三，而二八nm以上的成熟工艺在未来四年的市场份额没有明显变化，仍然有很大的市场 。
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