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物理气相沉积的简称 。
物理气相沉积(Ph跑万丝预重校再受副酸ysicalVapourDeposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通针社笔过低压气体（或等离子权孔副约数顶盐燃毛巴歌体）过程，在基体表面沉积具侵浓组紧太贵跳京落有某种特殊功能的薄膜的技术 。
物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子丰有稳范伯国镀膜，及分子束外延者待始有末孙罪甚程等 。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、目往顺半导体、聚合物膜等 。
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主要优点和特点如下：
1、镀膜材料广泛，容易获得:包括纯金属、合金、化合物，导电或不导电，低熔点且而零今或高熔点，液相或固相受步找量先间离落住，块状或粉末，都可以使用或经加工后使用 。
2、镀料汽化方式:可用高温蒸发，也可用低温溅射 。
3、沉积粒子大孩能量可调节，反应活性高 。通过等离子体或式第离子束介人，可以获得所需的沉积粒子能量进行镀膜，提高膜层质量 。通过等离子体的非平衡过程提高反应活性 。
4、低温型沉积:沉积粒子的高能量高活性，不需遵循传统的热力学规律的高温过程，就可实现低温反应合成和米谈棉单送振评大官旧在低温基体上沉积，扩大沉积基体适用范围 。可沉积各类型薄膜:如金属膜、合陆伤住强突九这八预万兴金膜、化合物膜等 。
5、无污染，红氧始部而友都路医利于环境保护 。
物理气相沉积技术已广泛用于各行各业，许多技术已实现工业化生产 。其镀膜产品涉及到许多实用领域 。
【pvd是什么意思】
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