2、反射镜
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反射镜听起来好像是一个比较常见的工具，然而在EUV光刻机上的反射镜可是一个关键技术 。
【高端光刻机只有荷兰能制作吗 光刻机哪个国家能造】EUV多层膜反射镜是光学系统当中重要的元件，有了这个反射镜的存在，才能够时间EUV波段的高反射率，且精度要求是非常高，精度越高的东西越难造，显然这个反射镜就不是一个容易造的 。
3、工作台
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在芯片制造当中，需要工作台进行配合，而在芯片制造当中，工作台移动来帮助芯片的纹路刻蚀，因此工作台移动的精度越高，那么制作出来的芯片精度也就越高 。
而ASML采用的则是一种激光干涉仪，精度非常高，有着位移测量的能力，可以实现出纳米级的同步运动，非常精密，这样的技术就是美国也没有办法做到 。
可见光刻机的建造难度极大，而其的建造，也代表着现如今最完整的高尖端工业体系，代表的是一个国家真正的科技力量，和真正的工业实力，因此是不容小觑的 。
这需要时间的沉淀，相信我国能够尽快完成28nm级光刻机，尽早做到自主芯片量产，再突破更为精细的光刻机 。
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